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    1.Controlled chemical etching leads to efficient silicon-bismuth interface for photoelectrochemical CO2 reduction to formate

    Ding, P, Hu, Y, Deng     More...

    MATERIALS TODAY CHEMISTRY[2468-5194], Published 2019, Volume 11, Pages 80-85

    收錄情况： WOS SCOPUS

    WOS核心合集引用: 28  2022影響因子:  7.3 

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